Verfahrensschritte-DRIE


Autor/Urheber:

unbekannt

Größe:
312 x 639 Pixel (15580 Bytes)
Beschreibung:

schematische Darstellung der Prozessschritte des DRIE-Verfahrens

Lizenzbedingungen:
Diese Datei erreicht nicht die für einen urheberrechtlichen Schutz nötige Schöpfungshöhe. Die Datei ist folglich gemeinfrei.
Credit:

unbekannt

Bild teilen:
Facebook   Twitter   Pinterest   WhatsApp   Telegram   E-Mail
Weitere Informationen zur Lizenz des Bildes finden Sie hier. Letzte Aktualisierung: Tue, 21 Nov 2023 15:00:17 GMT


Relevante Artikel

Reaktives Ionentiefenätzen

Reaktives Ionentiefenätzen, eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzens (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukturen in Silicium mit einem Aspektverhältnis von bis zu 50:1, wobei Strukturtiefen von einigen 100 Mikrometern erreicht werden können. Dies wird beispielsweise für die Herstellung von Silizium-Durchkontaktierungen eingesetzt/benötigt. Es gehört zu den Verfahren des Plasma-unterstützten Ätzens. .. weiterlesen