Phase mask 01 de
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SchrägbeleuchtungSchrägbeleuchtung – seltener Schrägbelichtung oder außeraxiale Belichtung genannt – bezeichnet in der Halbleitertechnik ein fortgeschrittenes Belichtungsverfahren bei der fotolithografischen Strukturierung. Es bietet die Möglichkeit der Verbesserung des Auflösungsvermögens und Vergrößerung der Fokustiefe bei bestimmten Strukturen, ohne Änderung der numerischen Apertur oder der verwendeten Wellenlänge. Eine vergleichbare Technik war seit Langem für die Verbesserung des Kontrastes bei optischen Mikroskopen bekannt und wurde 1989 für den Bereich der Halbleitertechnik vorgestellt sowie Anfang der 1990er Jahre zur von den Firmen Canon und Nikon in ihre Fotolithografiesysteme integriert. .. weiterlesen