Leiterbahn ausfallort elektromigration02
Autor/Urheber:
Shortlink:
Quelle:
Größe:
512 x 512 Pixel (66126 Bytes)
Beschreibung:
Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop. Die Passivierung wurde vorher durch Reactive Ion Etching (RIE) und Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das best mögliche Resultat zu erlangen.
Lizenz:
Public domain
Credit:
selbst mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen
Relevante Bilder
Relevante Artikel
ElektromigrationUnter Elektromigration (EM) versteht man einen Materialtransport durch allmähliche Bewegung von Ionen in einem festen Leiter, der durch den elektrischen Strom verursacht wird. Kollisionen von Elektronen mit den Ionen und in geringerem Maß auch das elektrische Feld üben eine Kraft auf die Ionen aus, weshalb sie während eines Diffusionsschrittes bevorzugt in eine bestimmte Richtung wandern (Drift). Durch die fortwährende Verkleinerung von Halbleiter-Strukturen gewinnt dieser Effekt an praktischer Bedeutung. .. weiterlesen