Scheme of n-metal oxide semiconductor field-effect transistor with channel de
- S: Source (engl. für „Zufluss“, „Quelle“)
- G: Gate (engl. für „Tor“, „Gatter“)
- D: Drain (engl. für „Abfluss“)
- B: Bulk/Substrat
Mit steigender Spannung zwischen Gate und Bulk bzw. Substrat (hier rot dargestellt) werden dabei zuerst die Majoritätsladungsträger verdrängt und es bildet sich durch Ladungsträger-Verarmung ein nichtleitendes Gebiet. Steigt die Spannung weiter, kommt es zur Inversion, das p-dotierte Substrat wird unterhalb des Gates n-leitend und bildet einen leitenden Kanal zwischen Source und Drain.
('+' bedeutet in dieser Abbildung starke Dotierung.)Relevante Bilder
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