Schema - p-dotiertes Silicium

Autor/Urheber:

Markus A. Hennig; SVG-Umsetzung: Cepheiden

Attribution:

Das Bild ist mit 'Attribution Required' markiert, aber es wurden keine Informationen über die Attribution bereitgestellt. Vermutlich wurde bei Verwendung des MediaWiki-Templates für die CC-BY Lizenzen der Parameter für die Attribution weggelassen. Autoren und Urheber finden für die korrekte Verwendung der Templates hier ein Beispiel.

Shortlink:

https://dewiki.de/b/6aed3

Quelle:

Wikimedia Commons

Größe:

775 x 775 Pixel (108962 Bytes)

Beschreibung:

Dotierung im zweidimensionales Siliziumkristallgitter mit Aluminium

Lizenz:

GFDL

Lizenzbedingungen:

GNU Free Documentation License

Credit:

Datei:Silizium-p-Dotiert.png

Bild teilen:

         

Weitere Informationen zur Lizenz des Bildes finden Sie hier. Letzte Aktualisierung: Tue, 24 Oct 2023 10:24:24 GMT

Relevante Bilder

Relevante Artikel

Eine Dotierung oder das Dotieren bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder in das Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die bei diesem Vorgang eingebrachte Menge ist dabei sehr klein im Vergleich zum Trägermaterial. Die Fremdatome sind Störstellen im Halbleitermaterial und verändern gezielt die Eigenschaften des Ausgangsmaterials, d. h. das Verhalten der Elektronen und damit die elektrische Leitfähigkeit. Dabei kann bereits eine geringfügige Fremdatomdichte eine sehr große Änderung der elektrischen Leitfähigkeit bewirken. .. weiterlesen